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用磁控溅射法在奥氏体不锈钢基片上分别制备了TiN薄膜和Al2O3薄膜，并用XRD、SEM和显微硬度等测试手段对沉积态和退火态薄膜进行表征，分析了不同工艺参数对薄膜的沉积速率、结构和性能的影响，从而得到最佳工艺参数。TiN薄膜在沉积气压为1．5Pa，氩氮比为16：16时薄膜的硬度值最大为16．0GPa。Al2O3薄膜在沉积气压为0．5Pa，氩氧比为10：1时薄膜的硬度值可达25．2GPa。