【摘 要】
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A 20 kV, 1 ns risetime pulsed electron beam source was developed using an ex- tremely small gap (0.1 mm) diode driven by a sub-nanosecond risetime, 10 kV rectan
【机 构】
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Northwest Institute of Nuclear Technology Xi'an 710024 China,Northwest Institute of Nuclear Technolo
【出 处】
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Plasma Science & Technology
论文部分内容阅读
A 20 kV, 1 ns risetime pulsed electron beam source was developed using an ex- tremely small gap (0.1 mm) diode driven by a sub-nanosecond risetime, 10 kV rectangular pulse generator. A beam current of 5 A was detected by using a fast response Faraday cup at a distance of 2 cm away from a grid anode. The shot to shot variation of the electron beam pulse was less than 10%.
A 20 kV, 1 ns risetime pulsed electron beam source was developed using an ex- tremely small gap (0.1 mm) diode driven by a sub-nanosecond risetime, 10 kV rectangular pulse generator. A beam current of 5 A was detected by using a fast response Faraday cup at a distance of 2 cm away from a grid anode. The shot to shot variation of the electron beam pulse was less than 10%.
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