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以常用于DNA分析的基质3-羟基吡啶甲酸（3-HPA）,以及常用于高分子聚合物分析的基质2-（4-羟基苯基偶氮）苯甲酸（HABA）、反式-3-吲哚基丙烯酸（IAA）和1,8,9-三羟基蒽（Dithranol）为研究对象,考察了基质溶剂、浓度及激光强度对基质本身在激光解吸电离/质谱（LDI/MS）过程中产生基质簇峰的影响,对基质簇峰可能形成的过程进行了推测,并对各基质簇峰进行了归属,提出了基质簇离子峰m/z值遵循的计算公式。