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提出了一种微流控芯片中的制作方法，此方法可以复制现有芯片的任意结构，可用于实验室原有芯片的修复和整合。用窗口的方法提取结构，可排除芯片上相邻结构的干扰，得到表面光滑整齐的新芯片。特别适用于复制目前软光刻工艺尚未达到的特微结构和三维结构芯片。实验制作出的聚二甲基硅氧烷（PDMS）芯片沟道长30μm，宽5μm，深5μm，显微镜下观察芯片表面光滑，窗口内沟道性质复制良好，窗口边缘与表面之间具有明显的陡变。