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为了简化窄带光学滤波器的结构，需要寻求更高折射率的膜层材料，采用宽柬冷阴极离子源的离子束辅助沉积工艺实验，分析了工艺参数与硅膜层折射率之间的关系，获得了对波长1550nm折射率在3．45～3．46之间、消光系数小于10^-6的硅膜层．使用实验得到的硅膜层和二氧化硅组合，设计了有71层膜层、信道间隔为200GHz的光学滤波器，峰值插入损耗0．18dB，0．5dB处的波长带宽为0．86nm，0．25dB处的波长带宽为1．91nm，通带波纹系数ξ-0．12dB，满足国际通信联盟（ITU）对密集波分复用系统（DW