【摘 要】
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引进了新型无氰氯化钾镀镉工艺,在实验室和生产线上对其工艺性能和镀层性能进行了研究。镀液组成为35～40 g/L氯化镉,140～180 g/L氯化钾,120～160 g/L配位剂,25～35 m L/L辅助剂,1.5
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引进了新型无氰氯化钾镀镉工艺,在实验室和生产线上对其工艺性能和镀层性能进行了研究。镀液组成为35～40 g/L氯化镉,140～180 g/L氯化钾,120～160 g/L配位剂,25～35 m L/L辅助剂,1.5～2.5 m L/L光亮剂,p H为6.0～7.0,挂镀JΚ为0.5～1.5 A/dm2,θ为15～35℃;滚镀槽电压4～7 V,θ为15～30℃,滚筒转速3～7 r/min。在JΚ为1 A/dm2下电镀,镉的沉积速率为0.23μm/min,电流效率为72.3%。镀层经过低铬彩色钝化后进行中性盐
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