【摘 要】
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先进掩膜技术中心(AMTC)、半导体设备供货商Vistec和德国国家物理技术研究院(PTB)将共同完成研发下一代芯片生产技术和量测流程的开发项目。德国教育部对此代号为“CDuR32(32
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先进掩膜技术中心(AMTC)、半导体设备供货商Vistec和德国国家物理技术研究院(PTB)将共同完成研发下一代芯片生产技术和量测流程的开发项目。德国教育部对此代号为“CDuR32(32nm掩膜光刻技术的核心演习和使用)”的研发项目提供了部分资助。该项目的总预算资金为16.7百万欧元,其
Advanced Mask Technology Center (AMTC), semiconductor equipment supplier Vistec and German National Institute of Physics and Technology (PTB) will work together on a development project to develop the next generation of chip production technology and measurement process. The German Ministry of Education provided partial support for this R & D project codenamed CDuR32 (Core Drills and Use of 32nm Mask Lithography). The total budget for this project is 16.7 million euros
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