【摘 要】
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利用磁控溅射的方法成功制备Ti掺杂类石墨碳（Ti-GLC）膜。采用拉曼光谱、X射线光电子谱（XPS）、扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）、纳米压痕仪和球盘式摩擦机分别表征不同Ti靶电
【机 构】
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中国科学院兰州化学物理研究所,中国科学院研究生院
【出 处】
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Transactions of Nonferrous Metals Society of China
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利用磁控溅射的方法成功制备Ti掺杂类石墨碳（Ti-GLC）膜。采用拉曼光谱、X射线光电子谱（XPS）、扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）、纳米压痕仪和球盘式摩擦机分别表征不同Ti靶电流下制备的Ti-GLC膜的成分、结构和性能。随着Ti靶电流的增加,薄膜中sp2键的比率和Ti含量增加,同时薄膜的硬度和内应力也增大,但较高的Ti靶电流将会促使薄膜产生鳞片状结构从而使其变疏松。较少的Ti掺入量可以降低GLC膜的干摩擦因数,纯GLC膜在水润滑条件下的摩擦因数最低。在较低Ti靶电流下制备的Ti-GLC
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