【摘 要】
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采用微波放电等离子体源产生高密度F原子,结合同步辐射真空紫外光电离质谱全面检测F原子在二氧化硅表面刻蚀反应的产物,并探究其反应机理。通过扫描同步辐射光子能量,获得具
【机 构】
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中国科学院安徽光学精密机械研究所,中国科学技术大学研究生院,中国科学技术大学国家同步辐射实验室,中国科学技术大学环境科学与光电技术学院
【基金项目】
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国家自然科学基金项目(21773249,91644109),安徽省自然科学基金项目(1608085MB35)资助
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采用微波放电等离子体源产生高密度F原子,结合同步辐射真空紫外光电离质谱全面检测F原子在二氧化硅表面刻蚀反应的产物,并探究其反应机理。通过扫描同步辐射光子能量,获得具有特定质量选择的离子光电离效率谱,测量了反应产物的电离能及碎片离子的出现势等基本参数;同时结合量子化学理论计算质谱中离子的来源,即对光电离和光解离过程进行了区分。结果表明,F原子在二氧化硅表面会反应生成一系列的氟氧硅化合物(SixOyFz),主要包括SiF4、SiF 3OSiF 3和SiFOSiF 2OF等,质谱中观察到的SiF3^+、SiF3
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