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利用分子自组装技术,在磁头表面制备1H,1H,2H,2H-全氟癸烷基三氯硅烷(FDTS)自组装膜并进行表征和摩擦学性能研究。实验结果表明:当反应时间为8min时,无碳膜磁头表面可制备膜厚1.2nm、接触角值111.5°、表面粗糙度0.198nm的FDTS单层自组装膜;当反应时间超过50min后,无碳膜磁头表面可制备不完整的FDTS双层自组装膜。FDTS自组装膜能够极大地降低无碳膜磁头起停过程的粘着力,增强磁头的摩擦磨损性能。