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本文以美国EATON公司的中束流注入机为例,阐述了IC芯片生产过程中离子注入工艺如何实现高质量注入;标准注入参数的调整,以及实现高速注入所应采取的各种手段,尽量发挥离子注入机的潜能,使中束流注入机也可以注入大束流,在生产上实现高速机动,加快了工艺流程.
离子注入工艺各个参数的调整
【摘 要】
：
本文以美国EATON公司的中束流注入机为例,阐述了IC芯片生产过程中离子注入工艺如何实现高质量注入;标准注入参数的调整,以及实现高速注入所应采取的各种手段,尽量发挥离子注
【机 构】
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东北微电子研究所
【出 处】
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微处理机
【发表日期】
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2004年3期
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