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采用反应磁控溅射方法在Ar、N2和O2混合气氛中制备了一系列Ti（O，N）涂层，并采用EDS、XRD、SEM、AFM和微力学探针研究了氧分压对涂层的化学成分、微结构和力学性能的影响。结果表明：随混合气氛中氧分压的提高，涂层中的氧含量逐步增加，氮含量相应减少，但涂层始终保持与TiN相同的NaCl结构。少量氧的加入，可以改善涂层的结晶状态，涂层的硬度也相应升高，明显高于未含氧的TiN涂层的硬度。氧含量为8．0％（原子数分数）时，涂层硬度达到最大值26．2GPa。进一步增加氧含量，涂层的硬度基本保持不变。