【摘 要】
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利用扫描俄歇微探针对多晶硅／二氧化硅界面进行分析，发现多晶硅／二氧化硅界面不是突变的，而存在着一个过渡区。根据多晶硅薄膜的成核理论，分析了该过渡区产生的原因，并利用＂幸运载流
【机 构】
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东南大学微电子中心，中国华晶电子集团公司
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利用扫描俄歇微探针对多晶硅／二氧化硅界面进行分析，发现多晶硅／二氧化硅界面不是突变的，而存在着一个过渡区。根据多晶硅薄膜的成核理论，分析了该过渡区产生的原因，并利用＂幸运载流子＂模型，定量分析该过渡区对ＭＯＳ结构热载流子注入效应的影响。
Polysilicon / SiO2 interface was analyzed by scanning Auger microprobe. It was found that the polysilicon / SiO2 interface was not abrupt, but there was a transition zone. According to the nucleation theory of polycrystalline silicon thin film, the reason of the transition region is analyzed, and the influence of the transition region on the hot carrier injection effect of MOS structure is quantitatively analyzed by using the “lucky carrier” model.
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