【摘 要】
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本文介绍用四乙基正硅酸盐（TEOS）等离子体加速化学气相淀积SiO2膜的试验研究情况。发现,当采用氧作氧化剂的时候,所产生的膜大约含有1个原子百分比浓度（a/o）的氮或碳。在反应中采
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本文介绍用四乙基正硅酸盐（TEOS）等离子体加速化学气相淀积SiO2膜的试验研究情况。发现,当采用氧作氧化剂的时候,所产生的膜大约含有1个原子百分比浓度（a/o）的氮或碳。在反应中采用N2O时,膜中氮浓度略有增加,达到2（a/o）。然而,在没有氧化剂的条件下,氮和碳浓度大致分别为18（a/o）和6（a/o）。膜的台阶覆盖（不考虑氧化剂）接近34％,与主要用硅烷的化学方法淀积的SiO2膜所达到的10％相比较,有显著的改进。折射率、红外光谱和膜密度,似乎可表征淀积SiO2膜的特征。TEOS-O2膜的电特性产生大于6MV/cm的击穿电场,在1MV/cm下,漏电流密度为8×10-9A/cm2。具有同等厚度的热生长SiO2的击穿电场和漏电流密度,分别为8MV/cm2和2×10-9A/cm2。
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