（Pb,La）TiO3铁电薄膜的表面态分析

• 作 者: 朱基亮 朱建国 申林 潘宇 肖定全
• 机 构: 四川大学材料科学系
• 出 处: 功能材料
• 发表日期: 2001年2期
• 关键词: 射频磁控溅射 铁电薄膜 EDAX XPS 表面态分析 Magnetron sputteringSurfacesTitanium oxides
• 基金项目: 国家高技术研究发展计划(863计划)

利用(Pb,La)TiO3陶瓷靶材,采用射频磁控溅射技术室温淀积,其后在600℃下退火,制备了PLT铁电薄膜.通过对薄膜进行XPS和EDAX分析,发现薄膜表面富钛.与利用其它工艺技术如多离子束反应共溅射、sol-gel等技术制备的PLT铁电薄膜进行对比可以看出,利用不同技术制备的铁电薄膜,具有不同的表面态.