As~+、B~+离子注入硅的结构和摩擦学性能

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利用XRD、XPS、AES分析了As+、B+离子注入后的硅的表面成分、结构和化学状态,并通过AFM/FFM和SRV实验测量了As+、B+离子注入硅的微观摩擦和宏观摩擦磨损性能。结果表明,As+、B+离子注入后,单晶硅表面仍呈晶态,表面粘着力、微观及宏观摩擦系数增大,同时耐磨损能力增强。微观与宏观摩擦磨损特性的规律基本一致。 The surface composition, structure and chemical state of Si after As + and B + ion implantation were analyzed by XRD, XPS and AES. The micro-friction and macro-friction and wear properties of As + and B + ions were measured by AFM / FFM and SRV measurements. The results show that the surface of single crystal silicon is still crystallized after As +, B + ion implantation, the surface adhesion, microscopic and macroscopic friction coefficient increase, while the wear resistance increases. The microscopic and macroscopic friction and wear characteristics of the law are basically the same.
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