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碳纳米管（CNT）场致发射的阴极结构通常用丝网印刷和光刻的工艺制作。此工作中，为提高制作精度和降低制作成本，用现有的CNT层作底部曝光的掩模版，用感光性介质浆料将电介质上的孔精确地直接制作在CNT发射体之上，从而避免了烧结收缩和光刻偏移引起的误差，本文以10＂一般三级结构的FED作为例子说明此工艺。