BiFe0．95Mn0.05O3薄膜铁电畴反转调控

• 作 者: 蒋晓妹 闫静 胡广达
• 机 构: 济南大学材料科学与工程学院,齐鲁师范学院物理与电子工程学院
• 出 处: 泰山学院学报
• 发表日期: 2017年3期
• 关键词: 铁电薄膜 铁酸铋 界面效应 ferroelectric thin film bismuth ferrite interface effect

本文依据铁电畴翻转过程以及缺陷化学理论，提出了将界面效应与体效应结合来抑制BiFeO3基薄膜铁电畴反转的方法．设计并制备了一种基于BiFe0.99W0.01O3和BiFe0.95O3的三明治结构薄膜来验证该方法的有效性．实验结果表明，作为上下表面的40纳米厚的BiFe0.99W0.01O3薄膜能有效抑制BiFe0.95Mn0.05O3薄膜中的反向畴成核，从而使薄膜的铁电和压电性能得到明显提升．