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Nd2Fe14B/α-Fe纳米复合磁体如果硬磁相具有理想的取向构造时，有可能获得超过Nd-Fe-B磁体的很高的磁特性，其最一般的制作方法便是熔体快淬法形成硬磁相晶轴方向紊乱分散的各向同性磁体。这种各向同性纳米复合磁体的磁特性，在剩磁密度Br与矫顽力HC的关系方面很接近于理论估算值。因此，为了进一步提高磁特性，使纳米复合磁体的硬磁相取向是很必要的，为此对于制造工艺的选择很重要。在这方面薄膜制造工艺是颇有前途的，近年来已制备成功Nd-Fe-B／α-Fe系、SmCo／α-Fe系等硬磁相取向的纳米复合多层膜。但是，作为硬磁相与软磁相的分散形态，三维分散膜要比二维分散（多层膜）的磁特性可能得到更大的提高，这可能是因为硬磁相*软磁相相间界面比例增大而交换耦合有效地起作用的缘故。作为硬磁相取向而且两相处于三维分散构造的材料，对于SmFe12/α-Fe系薄膜已有过研究报道，但尚未见过有关其他合金系的研究。因此，日本东北大学的研究者们利用射频磁控溅射法制备了软磁相α-Fe与硬磁相Nd2Fe14B三维分散，而且硬磁相易磁化轴单向取向构造的纳米复合薄膜磁体，研究了薄膜的取向条件及其磁特性。rn在射频磁控溅射装置抽成1.33×10－4Pa以下的真空，充入氩气至PAr＝0.67～13.3Pa，玻璃基板温度TS＝773～913K的条件下，进行射频溅射沉积。沉积前在玻璃基板（室温）上镀一层钛膜，可防止磁性层氧化。溅射用靶为Nd13Fe70B17并在其上放置数片三角形铁片。在室温下用振动样品磁强计（VSM法）测定磁性，用X射线衍射仪分析薄膜的构造。衍射结果和磁化曲线表明，Nd2Fe14B相的c轴沿膜面垂直方向取向，并且与α-Fe相交换耦合。溅射膜的饱和磁化强度随着α-Fe体积比VFe的增加而提高，而矫顽力则由494kA／m单调地减小到13.5kA／m。剩余磁化比要比交换耦合的无取向系稍大。