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本发明公布了一种含有适量硅和氧的氧化硅的制备方法。在还原性气氛下，对含有大量氧的氧化硅进行热处理，从而减少该氧化硅的含氧量．并最终得到含有适量硅和氧的氧化硅产品,
一种含有适量硅和氧的氧化硅的制备方法
【摘 要】
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本发明公布了一种含有适量硅和氧的氧化硅的制备方法。在还原性气氛下，对含有大量氧的氧化硅进行热处理，从而减少该氧化硅的含氧量．并最终得到含有适量硅和氧的氧化硅产品,
【出 处】
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无机盐工业
【发表日期】
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2017年4期
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