FTIR和XRD研究甲酰胺在高岭石插层复合体系中的形态及其复合物的微观结构

来源 :光谱学与光谱分析 | 被引量 : 0次 | 上传用户:eastliu33
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插层复合体系中,有机插层剂在插层的同时也可能吸附在复合物的表面或以自由态存在,对插层分子的表征将会产生较大的影响。以丙酮作淋洗剂,用FTIR及XRD技术对淋洗前后的插层复合体系监控,插层剂分子在复合体系中的可能存在形式,探讨水的作用及复合物微观结构的变化。结果显示:甲酰胺有插层、游离和吸附在复合物表面三种存在形态。3355和3462cm。处的红外振动峰归属于表面吸附的插层剂分子,3626cm。的峰归属于插层的H2O分子,在干燥后均消失。H20作为填充空间的分子参预了插层过程,且插入到层间,并在干燥后脱嵌。
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