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用多弧离子法在高速钢（Ｗ１８Ｃｒ４Ｖ）基底上沉积了Ｔｉ（Ｎ，Ｃ）薄膜，并运用ＳＥＭ、ＸＲＤ、ＸＰＳ对该膜微观结构随进气流量ｒ＝Ｇ２Ｈ２／Ｎ２变化的情况进行了测试和分析。结果表明薄膜随ｒ增加趋于致密，在ｒ值较小时呈现较强的（１１１）择优取向，随着ｒ值增大，（１１１）是这一取向逐渐变弱，（２２０）取向渐强，薄膜呈现典型耐心立方结构，主要万分为复合相Ｔｉ（ｎ，Ｃ）膜含有少量石墨相成分存在。