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运用标量光学理论, 研究了纳米加工中的基模高斯光束轴向相干叠加光场的三维强度分布特征,导出了高斯驻波场的光强分布表达式.在此基础上通过数值计算方法,分析比较了平面波驻波场与高斯驻波场之间的异同点.
基模高斯光束轴向相干叠加驻波场的研究
【摘 要】
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运用标量光学理论, 研究了纳米加工中的基模高斯光束轴向相干叠加光场的三维强度分布特征,导出了高斯驻波场的光强分布表达式.在此基础上通过数值计算方法,分析比较了平面波
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所
【出 处】
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光电子·激光
【发表日期】
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2004年期
【基金项目】
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中国科学院知识创新工程项目;
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