电压对氮掺杂TiO2／Ti光催化剂在可见光下催化性能的影响

• 作 者: 韩蕾 刘惠玲 辛言君 马欣新 唐光泽
• 机 构: 哈尔滨工业大学城市水资源与环境国家重点实验室,哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室
• 出 处: 黑龙江大学自然科学学报
• 发表日期: 2010年2期
• 关键词: TiO2/Ti光催化剂 氮掺杂 可见光 制备电压 TiO2/Ti photocatalyst N-doped visible light preparat

为拓展TiO2对可见光的响应范围，采用先恒流再恒压的阳极氧化法制备了TiO2／Ti光催化剂，并运用等离子体基离子注入（PBII）技术对TiO2／Ti光催化剂进行了氮的掺杂改性研究。通过SEM和XRD对不同电压下制备的氮掺杂TiO2／Ti光催化剂进行了分析。结果表明，TiO2氧化膜粗糙多孔，主要是由锐钛矿相和金红石相组成，其最佳的制备电压为160V，离子注入条件为-30kV，4×10^5N·cm^-2。氮元素主要以三种形态存在于TiO2的薄膜上，即原子β-N、分子γ-N和O-Ti—N。在