【摘 要】
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一、前言随着半导体集成电路由大规模集成向超大规模集成化方向的飞速发展,电路图形日趋复杂,线条已进入亚微米领域,对掩模版的精度要求亦越来越高。因此,制作高质量的掩模
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一、前言随着半导体集成电路由大规模集成向超大规模集成化方向的飞速发展,电路图形日趋复杂,线条已进入亚微米领域,对掩模版的精度要求亦越来越高。因此,制作高质量的掩模版是发展现代集成电路工业的关键步骤之一。作为主要制版设备的图形发生器,其所处的重要地位是不言而喻的。
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