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采用直流磁控溅射技术制备了CrNx涂层，研究了工艺参数对所制备的crNx涂层膜基结合力的影响．实验结果表明：N2含量较低时，膜基结合力较好，涂层表面光滑．只加脉冲偏压时，偏压越大，熔滴越大，表面越粗糙．
工艺参数对CrNx涂层膜基结合力的影响
【摘 要】
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采用直流磁控溅射技术制备了CrNx涂层，研究了工艺参数对所制备的crNx涂层膜基结合力的影响．实验结果表明：N2含量较低时，膜基结合力较好，涂层表面光滑．只加脉冲偏压时，偏压越大，熔滴越
【机 构】
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成都大学工业制造学院,西南石油大学机电工程学院
【出 处】
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成都大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2014年1期
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