【摘 要】
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在真空蒸发硅的同时，分别用N离子和NH3离子轰击生长表面，获得具有不同H和N含量的a－SiNx和a－SiNx：H薄膜。对于这些薄膜，只要它们具有光电导特性，就可以观察到光电导衰减现象。实验分
【机 构】
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浙江大学硅材料国家重点实验室!杭州310027,滑铁卢大学物理系!加拿大滑铁卢市
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在真空蒸发硅的同时，分别用N离子和NH3离子轰击生长表面，获得具有不同H和N含量的a－SiNx和a－SiNx：H薄膜。对于这些薄膜，只要它们具有光电导特性，就可以观察到光电导衰减现象。实验分析表明，H在光电导衰减中不起直接作用，而是通过增大a－SiNx：H的光学能隙，使陷阱更为有效；以及减少Si≡Si－复合中心，从而有可能提高非平衡自由或流子密度和增强电荷被陷的速率，而间接地增强光电导衰减。
While evacuating the silicon in vacuum, the growth surfaces were bombarded with N ions and NH3 ions, respectively, to obtain a-SiNx and a-SiNx: H films with different H and N contents. For these films, photoconductive decay can be observed as long as they have photoconductive properties. Experimental analysis shows that H can not play a direct role in the photoconductivity attenuation, but makes the trap more effective by increasing the optical energy gap of a-SiNx: H, and reduces the Si≡Si- recombination center, so that it is possible to improve the non- Balancing the free or flow density and increasing the charge trapping rate indirectly enhances photoconductive attenuation.
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