【摘 要】
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本文对形成室温单电子现象的典型隧道结结构模型利用 WKB方法求解薛定谔方程计算其隧穿电流与偏压的关系。本文利用该方法对 Au纳米粒子组装体系在室温下的 I- V特性进行了计
【机 构】
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本文对形成室温单电子现象的典型隧道结结构模型利用 WKB方法求解薛定谔方程计算其隧穿电流与偏压的关系。本文利用该方法对 Au纳米粒子组装体系在室温下的 I- V特性进行了计算机模拟 ,发现结果与实验符合得很好。该方法对于进一步指导纳米电子器件的实验及其原型化有重要意义。
In this paper, we use WKB method to solve the Schottky equation to calculate the tunneling current and bias voltage. In this paper, I-V characteristics of Au nanoparticle assembly system at room temperature were simulated by this method. The results are in good agreement with the experimental results. This method is of great significance for further experiments and prototyping of nanoelectronic devices.
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