【摘 要】
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控制体系电位在400mV下,研究Cu_2S、Cu、Ni在盐酸溶液中氯化浸溶的动力学,考察度温、酸度、氯气流量及搅拌速度对反应速度的影响。最后得速率常数、活化能及动力学方程式。
【机 构】
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昆明贵金属研究所,昆明贵金属研究所,昆明工学院,
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控制体系电位在400mV下,研究Cu_2S、Cu、Ni在盐酸溶液中氯化浸溶的动力学,考察度温、酸度、氯气流量及搅拌速度对反应速度的影响。最后得速率常数、活化能及动力学方程式。
Under the control system potential of 400mV, the kinetics of chloride leaching of Cu_2S, Cu and Ni in hydrochloric acid solution was studied. The effects of temperature, acidity, chlorine flow rate and stirring speed on the reaction rate were investigated. Finally, the rate constant, activation energy and kinetic equation.
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