【摘 要】
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为了试验并测定用真空蒸镀方法制取的集成电路基片温场的均匀性,用各种不同的材料制作了薄膜热电偶并对其进行了试验。用薄膜热电偶可以在不妨碍工艺过程进行的情况下局部测
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为了试验并测定用真空蒸镀方法制取的集成电路基片温场的均匀性,用各种不同的材料制作了薄膜热电偶并对其进行了试验。用薄膜热电偶可以在不妨碍工艺过程进行的情况下局部测量表面任意一个需测点的温度。为了做到这一点,在被测物的表面需附着一个“热电偶网”。热电势值可用自动
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