化学镀Ni-P合金镀层内应力的研究

• 作 者: 王显彬 谢华
• 机 构: 福州大学机械工程学院
• 出 处: 电镀与环保
• 发表日期: 2006年3期
• 关键词: 化学镀镍 薄片弯曲法 内应力 electroless nickel plating thin film flexural method internal s

采用薄片弯曲法测量不同pH值和不同热处理对化学镀镍层内应力的影响，分析了产生变化的原因。结果表明，当镀液pH值为3．8-4．1和4．4-4．6时，镀层受到的内应力为压应力，而当镀液pH值为4．8-5．1时，镀层受到的内应力为拉应力。镀液pH值越高，镀层中磷含量越低，其内应力越高。经过200℃×1h热处理，镀层的内应力减小；经过400℃×1h或600℃×1h热处理，镀层的内应力增大。