硅烷等离子体光发射谱的空间特性及其对沉积速率的影响

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探测等离子体光发射谱(OES)强度的二维空间分布,借助其峰值大小和峰位变动及输运因子概念来描写和全面探讨了它们的分布特性,特别是等离子体中成膜物质基团的输运特性,以寻求高速沉积的途径。实验结果说明,输运特性和等离子体参量(功率、流量、压强、偏压)之间有很强的依赖关系。而且对于SiH~*和H_α~*来说有不尽相同的规律。这些结果对于深入研究成膜机理无疑是重要的。
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