CVD金刚石膜／硅为基板的微条气体室性能研究

• 作 者: 张明龙 夏义本 王林军 顾蓓蓓 杨莹 汪琳
• 机 构: 上海大学材料科学与工程学院
• 出 处: 功能材料与器件学报
• 发表日期: 2005年2期
• 关键词: 微条气体室 气体探测器 CVD金刚石膜 X射线 micro-strip gas chamber gas detector CVD diamond film X-

提出了一种新型的CVD金刚石膜/硅(p～1010Ω·cm)为基板的微条气体室,阳极宽度7μm,阴极100 μm,间距200 μm.室温下,充以1.01×10-5Pa Ar+CH4混合气体时,采用5.9 keV 55FeX射线测量了探测器在不同高压和气体比例时的脉冲高度分布,详细讨论了高压和气体比例对能量分辨率的影响,结果表明该探测器具有较高的信噪比和能量分辨率.在Ar+10%CH4混合气体、-1100 V漂移电压和-650 V阴极电压工作条件下,微条气体室能量分辨率可达12.2%.