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在HFCVD系统中制备了直径为Ф100mm的自支撑CVD金刚石厚膜，利用XRD研究了自支撑CVD金刚石厚膜的应力。结果显示制备的大面积自支撑CVD金刚石厚膜处于较低的应力水平，应力分布较均匀，生长面应力状态为压应力，成核面应力状态为张应力。
大面积自支撑CVD金刚石厚膜的应力研究
【摘 要】
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在HFCVD系统中制备了直径为Ф100mm的自支撑CVD金刚石厚膜，利用XRD研究了自支撑CVD金刚石厚膜的应力。结果显示制备的大面积自支撑CVD金刚石厚膜处于较低的应力水平，应力分布较
【机 构】
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南京航空航天大学机电学院,江苏省精密与微细制造技术重点实验室
【出 处】
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人工晶体学报
【发表日期】
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2008年6期
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