快速低温溅射及其在电子器件方面的应用

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1.前言 近十年来,就阅读本刊几篇文章的读者来说,会清楚地看到,用溅射制造薄膜的方法,是从应用于制造粗质混合集成电路(1C)开始的,并作为制造电子器件的周边技术而逐渐地得到广泛使用(1-5)。作为制作薄膜的溅射装置来说,有几种方法是大家熟悉的,但无论是在日本还是在世界上,除? 1. Introduction For readers reading several articles in this issue in the past ten years, it has become clear that the method of manufacturing thin films by sputtering begins with the application to the fabrication of rough hybrid ICs Is widely used as a peripheral technology for manufacturing electronic devices (1-5). As a sputtering device for making thin films, there are several methods that are familiar to you, but whether in Japan or in the world,
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