三维Ni亚微米柱阵列的制备及微结构研究

• 作 者: 陈昶 张伟 陈建 刘春海 曾宪光 杨瑞嵩 王龙 蒲国
• 机 构: 四川理工学院材料科学与工程学院、材料腐蚀与防护四川省重点实验室,四川理工学院分析测试中心
• 出 处: 功能材料
• 发表日期: 2016年4期
• 关键词: AAO模板 磁控溅射 Ni亚微米柱阵列 晶体结构 表面形貌 AAO templatemagnetron sputteringNi submicron colum
• 基金项目: 国家自然科学基金资助项目（51201111）,材料腐蚀与防护四川省重点实验室开放基金资助项目（2015CL04）,四川理工学院研究生创新基金资助项目（y2014017）,四川省教育厅资助项目（12ZB285）,四川理工学院人才引进基金资助项目（2011RC05）,四川理工学院培育资助项目（2015PY01）,四川理工学院大学生创新创业训练计划资助项目（CX20141020）,自贡市科技局资助项目（

利用磁控溅射法在阳极氧化铝（AAO）模板上制备了Ni亚微米柱阵列,研究了不同退火温度对Ni亚微米柱阵列结构稳定性的影响.通过原子力显微镜（AFM）、X 射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）等对不同退火温度下制备的Ni亚微米柱阵列的晶体结构以及表面形貌进行了表征.结果表明,磁控溅射法制备的Ni亚微米柱阵列具有多晶的面心立方结构,排列规则、粗细均匀,其直径约为400nm.经400 ℃退火后,开始形成Al1.1Ni0.9和AlNi金属间化合物.500℃退火后,出现空心Ni亚微米柱,且Ni亚微米柱体积膨