论文部分内容阅读
外延生长异质薄膜通常要求材料之间晶格匹配,然而利用范德瓦尔斯作用外延生长时,晶格匹配要求显著降低.实验上已经得出了在MoS2基板上外延生长C60薄膜的结果,本文用分子动力学计算机模拟方法对MoS2基板上外延生长C60薄膜进行了研究,证实范德瓦尔斯外延可以克服较大的晶格失配问题.
MoS2基板上外延生长C60薄膜的分子动力学模拟
【摘 要】
：
外延生长异质薄膜通常要求材料之间晶格匹配,然而利用范德瓦尔斯作用外延生长时,晶格匹配要求显著降低.实验上已经得出了在MoS2基板上外延生长C60薄膜的结果,本文用分子动力
【机 构】
：
复旦大学
【出 处】
：
真空科学与技术
【发表日期】
：
2002年5期
其他文献
<正>人力资源规划,对于企业整体今后发展战略规划实施有着积极促进意义。尤其是在如今风云变幻市场环境下,良好人力资源规划能够最大限度降低未来不确定性,科学制定与实施人
为测量气体放电磁化等离子体离子参数，建立了一套静电离子探针诊断系统，进行了从近芯部到边缘区的离子温度分布的测量，结果与常规朗缪尔探针对电子参数的测量结果吻合。
目的分析重型颅脑损伤患者术中急性脑膨出的原因和救治方法。方法对2008年8月至2013年4月18例术中出现急性脑膨出的重型颅脑损伤患者进行回顾性分析。结果Ⅰ级（死亡）4例,Ⅱ级（植
对PMMA进行反应离子深刻蚀以获得高深度比微结构.研究了纯氧刻蚀气体中加入CHF3对刻蚀速率、图形形貌等的影响.纯氧刻蚀PMMA,钻蚀现象严重.加入CHF3后,刻蚀速率随CHF3含量增