异质界面调控超薄PbTiO_3薄膜四方性的研究

• 作 者: 张思瑞 唐云龙 朱银莲 李爽 马秀良
• 机 构: 中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室,中国科学院大学
• 出 处: 电子显微学报
• 发表日期: 2018年4期
• 关键词: 铁电薄膜 异质界面 四方性提高 球差校正透射电子显微镜 ferroelectric film heterointerface tetragonality enh
• 基金项目: 国家自然科学基金资助项目（No.51571197）, 国家科学院前沿局重点研究项目（No.QYZDJ-SSW-JSC010）

本文利用球差校正透射电子显微镜研究了异质界面结构对PbTiO_3/La_（0.7）Sr_（0.3）MnO_3/NdGaO_3（110）_O以及PbTiO_3/NdGaO_3（110）_O超薄薄膜体系中铁电PbTiO_3层四方性的影响。结果表明,在NdGaO_3（110）_O衬底上生长的具有化学价态不连续异质界面（La_（0.7）Sr_（0.3）MnO_3/PbTiO_3）的PbTiO_3薄膜体系中四方性比直接在NdGaO_3（110）_O衬底上生长超薄PbTiO_3薄膜的四方性明显增强,XPS谱分析显示出