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ZnO薄膜离子注入改性的研究进展
ZnO薄膜离子注入改性的研究进展
来源 :液晶与显示 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dingmx2008
【摘 要】
:
ZnO是一种在短波长光电器件领域有巨大应用价值的Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体材料,离子注入是常用的半导体掺杂技术,文章综述了国内外近年来离子注入技术在ZnO的n、p型掺杂等方面的
【作 者】
:
薛书文
梅芳
肖世发
黄子康
莫东
【机 构】
:
湛江师范学院物理系
【出 处】
:
液晶与显示
【发表日期】
:
2009年3期
【关键词】
:
氧化锌
离子注入
掺杂
ZnO
ion implantation
doping
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ZnO是一种在短波长光电器件领域有巨大应用价值的Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体材料,离子注入是常用的半导体掺杂技术,文章综述了国内外近年来离子注入技术在ZnO的n、p型掺杂等方面的研究进展。
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