用化学热解沉积法制备硫化镉薄膜的微结构

• 作 者: Cha DeoKjoon Kim Sunmi 黄宁康
• 机 构: Dept.ofphysics,四川大学原子核科学技术研究所教育部辐射物理和技术重点实验室
• 出 处: 红外与毫米波学报
• 发表日期: 2004年1期
• 关键词: 化学热解沉积 硫化镉薄膜 微结构 沉积温度 X射线衍射分析 退火处理 chemical pyrolysis deposition CdS films micro
• 基金项目: 国家重点实验室基金

在载玻片或ITO涂覆的玻璃上采用化学热解法沉积CdS固体薄膜,沉积温度在350～540℃之间.部分制备的CdS薄膜进行200～600℃的退火热处理.由SEM,AFM和XRD分析测量退火热处理前后的CdS薄膜的微观结构.结果表明,沉积温度低于540℃以下制备的CdS薄膜具有类六方结构相,当高于540℃沉积的CdS薄膜则显示纤锌矿相.在400℃化学热解沉积的CdS薄膜经高于500℃的后热处理也可获得纤锌矿相.CdS薄膜的晶粒尺寸依赖于沉积温度及不同基体的情况也在本文中进行了讨论.