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为了解成像磁透镜系统使用对提高质子照相品质的作用,研究了成像磁透镜系统对核反应产生的次级质子的消除作用.利用MCNPX模拟了次级质子的能谱,结果表明:次级质子的平均能量不足照相质子束的50%.从次级质子的能量特性和成像系统质子运动学方面的分析表明:成像磁透镜系统可消除次级质子的影响.利用程序MCNPX对含成像磁透镜系统的质子照相进行了模拟,结果显示:成像磁透镜系统将次级质子对光程的影响减小到2%以下,显著提高了图像品质.