金属Ti／Cu多层膜紫外光反射性能研究

来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhangyan820923

【摘要】

：

采用直流磁控溅射方法制备Ti/Cu和Cu/Nb多层金属反射膜,并对膜的紫外光反射性能进行研究,发现该膜的反射性能与基片的结构和温度、多层膜的周期和结构有关.选用取向为(100)的

【作者】

：

罗佳慧李燕杨成韬

【机构】

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电子科技大学信息材料工程学院

【出处】

：

功能材料

【发表日期】

：

2001年1期

【关键词】

：

多层金属膜直流磁控溅射紫外反射率 metal multilayer films DC magnetron sputtering UV reflectivit

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采用直流磁控溅射方法制备Ti/Cu和Cu/Nb多层金属反射膜,并对膜的紫外光反射性能进行研究,发现该膜的反射性能与基片的结构和温度、多层膜的周期和结构有关.选用取向为(100)的单晶Si为基片,在基片温度为470℃左右、多层膜的周期为30时,膜的结晶性较好.且多层膜的反射率随波长的减小而增加,在波长为250nm时,反射率可达到65%

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