低介电常数聚酰亚胺/多金属氧酸盐复合薄膜的制备及其性能

• 作 者: 谭麟 赵建青 曾钫 刘述梅 程晓乐
• 机 构: 华南理工大学材料科学与工程学院
• 出 处: 高校化学工程学报
• 发表日期: 2010年2期
• 关键词: 多金属氧酸盐 聚酰亚胺 复合薄膜 低介电常数 polyoxometalate polyimide pomposite films low dielectr

以带环氧官能团的3-环氧丙氧基三甲基硅烷（KH560）作为改性剂在酸性MeCN/H2O混合溶液中和多金属氧酸盐K8SiW11O39进行反应,制得了硅烷改性的多金属氧酸盐有机杂化物SiW11KH560,红外光谱、XPS等分析结果表明KH560与K8SiW11O39发生了反应。将改性后的K8SiW11O39添加到均苯四甲酸酐-二苯醚二胺的聚酰胺酸溶液中,热酰亚胺化制备了聚酰亚胺/多金属氧酸盐复合薄膜。EDS能谱分析表明多金属氧酸盐颗粒在聚酰亚胺基体中呈均匀分布,当复合薄膜中多金属氧酸盐有机杂化物SiW11KH