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本文着研究了非线性光学晶体ＫＮｂＯ３在８６０ｎｍ及４３０ｎｍ处倍频膜的膜系设计。试验结果显示，在８６０ｎｍ及４３０ｎｍ处的透过率分别增加了１９．４个百分点和１４．３个百分点。
铌酸钾（KNbO3）晶体860nm和430nm倍频膜的研制
【摘 要】
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本文着研究了非线性光学晶体ＫＮｂＯ３在８６０ｎｍ及４３０ｎｍ处倍频膜的膜系设计。试验结果显示，在８６０ｎｍ及４３０ｎｍ处的透过率分别增加了１９．４个百分点和１４．３个百分点。
【机 构】
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人工晶体研究所
【出 处】
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人工晶体学报
【发表日期】
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2000年1期
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