φ50硅片生产线通过验收

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上海勤奋半导体器件厂Φ50硅片生产线技改项目,于七月廿九日通过验收。该生产线采用了 LPCVD 氮化硅钝化、PECVD 氮化硅钝化、等离子刻蚀,电子束蒸发、后磨片、自动刷片等工艺,并且全部采用国产最新装备,净化车间的最高净化等级为100级。这些新工 Shanghai Dili semiconductor device factory Φ50 silicon production line technological transformation project, passed the acceptance on July 29. The production line adopts LPCVD silicon nitride passivation, PECVD silicon nitride passivation, plasma etching, electron beam evaporation, after grinding, automatic brushing and other processes, and all the latest domestic equipment, purification plant purification highest level 100 levels. These new workers
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