【摘 要】
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1、产品及其简介该产品采用气相掺氮技术,即氮气既作为保护气,又通过与硅熔体反应掺入熔体,是硅晶体中氮的来源,解决了气相掺氮掺入量控制的难题。用气相(氮气)直接掺氮,操作
【机 构】
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宁波立立电子股份有限公司,浙江大学硅材料国家重点实验室,
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1、产品及其简介该产品采用气相掺氮技术,即氮气既作为保护气,又通过与硅熔体反应掺入熔体,是硅晶体中氮的来源,解决了气相掺氮掺入量控制的难题。用气相(氮气)直接掺氮,操作简便,成本低廉,但需要用特殊方法精确控制掺入量。
1, the product and its introduction The product uses gas-phase nitrogen-doped technology, that is, nitrogen as both protective gas, and by melt reaction with silicon melt into the silicon is the source of nitrogen in silicon crystals to solve the gas doping control of nitrogen content The problem Nitrogen is directly doped with gas (nitrogen), which is easy to operate and has low cost. However, it requires precise control of the dosage by special methods.
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