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氮氧化硅薄膜综合了ＳｉＯ２膜和Ｓｉ３Ｎ４膜的优点具有优秀的光电和学性能和稳定性，已经在光电领域获得了广泛地应用，此外在材料改性方面也有广阔的应用前景。本文综全评述了几种氮氧化硅薄膜的制备方法，比较了各自优缺点，并指出了今后制备方法的发展趋势。
氮氧化硅薄膜制备方法的研究
【摘 要】
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氮氧化硅薄膜综合了ＳｉＯ２膜和Ｓｉ３Ｎ４膜的优点具有优秀的光电和学性能和稳定性，已经在光电领域获得了广泛地应用，此外在材料改性方面也有广阔的应用前景。本文综全评述了几种氮氧化硅薄膜的
【机 构】
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浙江大学材料
【出 处】
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材料科学与工程
【发表日期】
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1999年4期
【基金项目】
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国家自然科学基金,浙江省自然科学基金
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