【摘 要】
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本文简要回顾等离子体技术应用于半导体工艺的发展史。从放电化学的角度阐明等离子体对多晶硅、Si_3N_4和光致抗蚀剂的腐蚀原理及等离子体CVD法生长Si_3N_4的原理。指出等离
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本文简要回顾等离子体技术应用于半导体工艺的发展史。从放电化学的角度阐明等离子体对多晶硅、Si_3N_4和光致抗蚀剂的腐蚀原理及等离子体CVD法生长Si_3N_4的原理。指出等离子体技术将是半导体加工必不可少的工艺之一。
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