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主要研究了二氧化硅的干法刻蚀工艺。运用反应离子刻蚀设备(R IE150×4)进行了一系列的刻蚀实验,采用不同的工艺条件对二氧化硅进行选择刻蚀工艺研究,得出了不同工艺条件对应的刻蚀速率、均匀性、选择比等刻蚀参数,并对结果进行了比较与分析,得到了相对最佳的工艺条件。
二氧化硅的干法刻蚀工艺研究
【摘 要】
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主要研究了二氧化硅的干法刻蚀工艺。运用反应离子刻蚀设备(R IE150×4)进行了一系列的刻蚀实验,采用不同的工艺条件对二氧化硅进行选择刻蚀工艺研究,得出了不同工艺条件对应
【机 构】
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电子科技大学光电信息学院
【出 处】
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微处理机
【发表日期】
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2010年02期
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