电流密度影响下镍钨合金电沉积层的组成,结构和形貌

来源 :厦门大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ankang1991
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采用分光光度法,X射线衍射和金相显微镜等方法研究在焦磷酸盐体系中,电流密度影响下所获得的Ni-W合金电沉积层的组成,结构和表面形态,结果表明,随着电流密度的提高,合金沉积层中W含量增大。形成置换固溶体的合金沉积层晶格参数涨大,晶格畸变度增大,而显微晶粒尺寸减小;合金沉积层的电结晶生长形态均呈现整齐的团粒状生长特征。讨论了上述实验结果。
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